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精密激光標刻系統

精密激光標刻系統



樣品圖片



主要特點


精密激光打標機的光束質量極好,為基模輸出,光束聚焦后達到微米級,適用于精密標刻、精細標刻。此款光纖激光標刻系統體積小巧、搬運方便、實現便攜化。激光輸出功率穩定、能量波動低于2%,設備可靠性高,理論上平均無故障運行可達10萬小時。



設備性能


精密激光標刻系統在激光標刻應用方面具有許多獨特的優勢。與傳統的固體激光器使用晶體棒作為激光介質不同,光纖激光標刻系統的光纖激光器的激光介質是很長的摻鐿雙包層光纖,并被高功率多模激光二極管所泵浦。


應用領域


陶瓷材料器件、電子元器件、電工產品、IT產業、汽車配件、精密器械、醫療器械等精細標記及深雕。


設備技術參數

   

設備型號

RF-DF20

RF-DF30

RF-DF50


輸出功率

20W

30W

50W


激光波長

1055nm1070nm

脈沖寬度

0.5ns400ns

激光頻率

1KHz2000KHz

標記范圍

          100mm×100mm(可選)

標記方式

靜態或動態標記(可選)

光斑直徑

                  0.03mm0.05mm

冷卻方式

風冷

設備功耗

                 700W900W

電力要求

單相200V/5060Hz.5A

環境要求

溫度:13°~35°

濕度:5% 85%



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